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高纯钨溅射靶材制取工艺研究图文 另外在 多项军工项目中和分子外延设备中使用高纯钨靶材和 加工材, 在高真空高温环境下, 性能可靠放气量小, 使其器件性能和品质得到大幅度提高, 说明使用该工 艺生产的高纯钨材, 纯度高, 质量好。
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钨的冶金及其加工技术 第 22 卷第 1 期 年 2 月 .22,No.1 y . 文章编号: - - - 03 钨的冶金及其加工技术 谭栓斌 1, 郭让民 1, 刘建章 2, 殷为宏 2 摘 要: 简要综述了钨的
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半导体靶材行业深度报告:被忽视的核心耗材,十倍空间可期 靶材是制备薄膜的主要材料之一,主要应用于集成电路平板显示太阳能电池记录媒体智能玻璃等,对材料纯度和稳定性要求高。从技术要求来看,半导体靶材要求超高纯度金属高精密尺寸高集成度等,往往选取高纯铜
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